[1、] 用于铁薄膜的金属有化学气相沉积和退火处理

　　[2、] 由化学气相沉积法沉积的有聚合物k抗k反射涂层

　　[3、] 紫外光子复合辉光放化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法

　　[4、] 在原子层沉积过程使寄生化学气相沉积~小化~装置和原理

　　5-WX101 提高子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置

　　6-WX101 用于优先化学气相沉积的方法和系统

　　7-WX101 等离子体fu助化学气相沉积装置m脉m冲源的驱动路

　　8-WX101 化学气相沉积的排气处理回收的方法及装置

　　9-WX101 一种化学气相沉积球形还原铁

　　10-WX101 钨金属化学气相沉积法原子层沉积的方法

　　11-WX101 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法

　　12-WX101 增强有金属化学气相沉积薄膜的装置及方法数

　　13-WX101 适用于低温热化学气相沉积合成纳米碳管的负载金属触媒及使用此触媒的纳米碳管合成方法据

　　14-WX101 用于形成金属氧化物薄膜的使用醇的化学气相沉积法

　　15-WX101 用以制造半导体装置的化学气相沉积设备的喷头

　　16-WX101 固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法

　　17-WX101 金刚相碳管及其化学气相沉积制造方法

　　18-WX101 一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备

　　19-WX101 用业纯原料气进等离子化学气相沉积的涂层方法与设备

　　20-WX101 用等离子体增强的化学气相沉积法沉积垂直方向阻的方法

　　21-WX101 一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法

　　22-WX101 氧化铋的化学气相沉积

　　23-WX101 弧光放化学气相沉积金刚石薄膜的方法

　　24-WX101 双直流等离子体化学气相沉积装置

　　25-WX101 粘结剂富集的有化学气相沉积和物li气相沉积涂覆的切削刀具

　　26-WX101 化学气相沉积金刚石涂层硬质合金具新艺

　　27-WX101 化学气相沉积法碳化硅连续纤维用碳芯的制备方法

　　28-WX101 韧化的化学气相沉积金刚石

　　29-WX101 一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法

　　30-WX101 3N4超硬薄膜材料&C23C1636a01射频化学气相沉积法合成β-C3N4超硬薄膜材料

　　31-WX101 选择性化学气相沉积形成铝接触栓的方法

　　32-WX101 2O5的低漏流薄膜的制作方法&H01L21283a01低压化学气相沉积Ta2O5的低漏流薄膜的制作方法

　　33-WX101 低压化学气相沉积氧化钛簿膜的低漏流极的制作方法

　　34-WX101 等离子体化学气相沉积装置

　　35-WX101 微波等离子体化学气相沉积合成晶相碳氮薄膜

　　36-WX101 一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法

　　37-WX101 业型m脉m冲直流等离子体化学气相沉积模具表面强化设备

　　38-WX101 高密度等离子体化学气相沉积制造介防反射涂层的方法

　　39-WX101 一种等离子化学气相沉积镀膜方法和设备

　　40-WX101 化学气相沉积室钝化方法

　　41-WX101 以化学气相沉积制备有折射率分布的预成形物的方法

　　42-WX101 用于非晶态硅和形成的薄膜的化学气相沉积法

　　43-WX101 化学气相沉积装置和化学气相沉积方法

　　44-WX101 化学气相沉积两步法制备大面积硼化镁超导薄膜艺

　　45-WX101 从钽卤化物前体得到的热化学气相沉积钽氮化物膜的等离子体处理方法

　　46-WX101 自钽卤化物前体获得整体式的钽和钽氮化物膜的化学气相沉积方法

　　47-WX101 从钽卤化物前体得到的钽氮化物膜的等离子增强的化学气相沉积方法

　　48-WX101 光子－热丝化学气相沉积生长大面积金刚石薄膜的方法

　　49-WX101 回旋子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法

　　50-WX101 多晶硅化学气相沉积方法和装置

　　51-WX101 用烷基硅氧烷低聚物和臭氧化学气相沉积氧化硅薄膜

　　52-WX101 化学气相沉积设备

　　53-WX101 化学气相沉积系统的捕气装置

　　54-WX101 化学气相沉积反应室的气体分配器的清洗方法

　　55-WX101 采用改进的化学气相沉积制备大容量光纤预制件的方法

　　56-WX101 一种改进的化学气相沉积装置

　　57-WX101 使用有金属源试剂的化学气相沉积过程的流出物的消除

　　58-WX101 使用配体交换耐蚀金属有前体溶液的化学气相沉积过程的流出物的消除

　　59-WX101 2超导薄膜的原热丝化学气相沉积制备方法&C23C1638a01MgB2超导薄膜的原热丝化学气相沉积制备方法

　　60-WX101 化学气相沉积室的清洁方法

　　61-WX101 等离子化学气相沉积炉

　　62-WX101 双温场化学气相沉积装置

　　63-WX101 化学气相沉积的设备

　　64-WX101 低阻率钌层的低温化学气相沉积

　　65-WX101 硫属化物材料的化学气相沉积

　　66-WX101 高温化学气相沉积设备

　　67-WX101 磁场fu助化学气相沉积法

　　68-WX101 金属有物化学气相沉积设备的反应腔体

　　69-WX101 金属有物化学气相沉积设备反应腔的加热系统

　　70-WX101 用于在高纵横比空间进化学气相沉积的方法

　　71-WX101 一种采用化学气相沉积法批量制备竹节状碳纳米管的方法

　　72-WX101 化学气相沉积设备反应室的清洗艺

　　73-WX101 直流等离子体化学气相沉积设备

　　74-WX101 硅基介质的化学气相沉积方法

　　75-WX101 增加等离子体增强化学气相沉积介质薄膜压应力的方法

　　76-WX101 用于化学气相沉积装置的保温器

　　77-WX101 含金属-硅的薄膜的循环化学气相沉积

　　78-WX101 2催化剂的方法&C23CIa01金属有化学气相沉积制备膨润土负载TiO2催化剂的方法

　　79-WX101 制氟碳阳极化学气相沉积热解碳k抗k极化涂层制备方法

　　80-WX101 氮化硅的化学气相沉积方法

　　81-WX101 一种实时测量并控制增重速率的化学气相沉积装置及方法

　　82-WX101 4C材料的方法&H01MIa01化学气相沉积fu助固相法合成LiFePO4C材料的方法

　　83-WX101 用于在容器内部进等离子体增强型化学气相沉积PECVD内阻挡层的装置所述装置包括被磁阀隔离的

　　84-WX101 用作化学气相沉积的前体的有硅组合物的纯化方法

　　85-WX101 改进的化学气相沉积艺用新型排qi管

　　86-WX101 光化学气相沉积设备

　　87-WX101 光化学气相沉积设备的光透过窗口装置

　　88-WX101 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石制品

　　89-WX101 偏x心x进气化学气相沉积炉

　　90-WX101 一种化学气相沉积碳化硅纤维的反应器

　　91-WX101 一种热丝化学气相沉积金刚石的设备

　　92-WX101 化学气相沉积金刚石均质喷嘴

　　93-WX101 一种感耦合射频等离子体fu助钨丝加热制备薄膜的化学气相沉积装置

　　94-WX101 一种化学气相沉积设备

　　95-WX101 三重气流金属有物化学气相沉积设备反应腔体

　　96-WX101 用于金属有化学气相沉积系统的加热装置

　　97-WX101 热梯度化学气相沉积法制备炭炭复合材料厚壁板材

　　98-WX101 用于金属有化学气相沉积设备的双层进气喷头

　　99-WX101 用于金属有化学气相沉积设备的楔形反应管

　　100-WX101 能防止污染并提高膜生长速率的化学气相沉积方法和设备

　　...........

　　330-WX101 光伏组件规模制造用等离子体化学气相沉积真空设备

　　331-WX101 一种等离子体化学气相沉积进气装置

　　332-WX101 化学气相沉积设备及其晶舟

　　333-WX101 一种化学气相沉积炉尾气排放磁阀自清洗装置

　　334-WX101 有金属化学气相沉积装置

　　335-WX101 磁场fu助的金属有物化学气相沉积设备

　　336-WX101 一种多晶硅化学气相沉积装置

　　337-WX101 一种等离子体化学气相沉积法PECVD小车

　　338-WX101 等离子体fu助化学气相沉积装置

　　339-WX101 用于化学气相沉积的等离子炬