1、] 用于铁薄膜的金属有化学气相沉积和退火处理
[2、] 由化学气相沉积法沉积的有聚合物k抗k反射涂层
[3、] 紫外光子复合辉光放化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
[4、] 在原子层沉积过程使寄生化学气相沉积~小化~装置和原理
5-WX101 提高子回旋共振化学气相沉积速度的方法及装置
6-WX101 用于优先化学气相沉积的方法和系统
7-WX101 等离子体fu助化学气相沉积装置m脉m冲源的驱动路
8-WX101 化学气相沉积的排气处理回收的方法及装置
9-WX101 一种化学气相沉积球形还原铁
10-WX101 钨金属化学气相沉积法原子层沉积的方
11-WX101 液相源雾化微波等离子体化学气相沉积制备薄膜的方法
12-WX101 增强有金属化学气相沉积薄膜的装置及方法
13-WX101 适用于低温热化学气相沉积合成纳米碳管的负载金属触媒及使用此触媒的纳米碳管合成方法
14-WX101 用于形成金属氧化物薄膜的使用醇的化学气相沉积法
15-WX101 用以制造半导体装置的化学气相沉积设备的喷头
16-WX101 固体源化学气相沉积生长ZnO薄膜的方法
17-WX101 金刚相碳管及其化学气相沉积制造方法
18-WX101 一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备
19-WX101 用业纯原料气进等离子化学气相沉积的涂层方法与设备 :
20-WX101 用等离子体增强的化学气相沉积法沉积垂直方向阻的方
93-WX101 一种感耦合射频等离子体fu助钨丝加热制备薄膜的化学气相沉积装置
94-WX101 一种化学气相沉积设备
95-WX101 三重气流金属有物化学气相沉积设备反应腔体
96-WX101 用于金属有化学气相沉积系统的加热装置
97-WX101 热梯度化学气相沉积法制备炭炭复合材料厚壁板材
98-WX101 用于金属有化学气相沉积设备的双层进气喷头
99-WX101 用于金属有化学气相沉积设备的楔形反应管
100-WX101 能防止污染并提高膜生长速率的化学气相沉积方法和设备
101-WX101 化学气相沉积处理装置
102-WX101 纳米二氧化硅的化学气相沉积制备方法
103-WX101 倒置化学气相沉积CVD的装置
104-WX101 直流辉光等离子体化学气相沉积方法制备碳纳米管的艺
105-WX101 化学气相沉积法制备洋葱状富勒烯
106-WX101 等离子体增强式化学气相沉积处理方法
107-WX101 多沉积步骤的高浓度等离子化学气相沉积方法
108-WX101 等离子体外部化学气相沉积用多火炬-多靶方法和设备
109-WX101 热梯度化学气相沉积法制备炭炭复合材料
110-WX101 制备纳米金刚石薄膜的fu助栅极热丝化学气相沉积法
111-WX101 降低化学气相沉积掺杂磷氧化层表面缺陷的方法
112-WX101 用低能量等离子体增强化学气相沉积法形成高迁移率硅锗结构
113-WX101 化学气相沉积装置
114-WX101 低压化学气相沉积设备减少微粒的方法
115-WX101 直流弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法
116-WX101 制造预制体的等离子体化学气相沉积装置和方法
117-WX101 等离子体化学气相沉积系统及涂覆衬底两侧的方法
118-WX101 采用金属有化学气相沉积法制备功能梯度材料的方法
119-WX101 物理场作用下化学气相沉积快速制备炭／炭复合材料的方法
120-WX101 监控化学气相沉积前腔体洁净度的方法
121-WX101 连续化学气相沉积艺和加炉
122-WX101 由热化学气相沉积制造氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的方法
123-WX101 以一晶圆式化学气相沉积的反应器连续形成氧化物氮化物氧化物绝缘层的制造方法
124-WX101 化学气相沉积涂涂料设备
125-WX101 化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石材料及应用
126-WX101 低介常数材料以及化学气相沉积（CVD）制备方法
127-WX101 容器内表面化学气相沉积涂层方法
128-WX101 在低介常数介质上沉积化学气相沉积膜和原子层沉积膜的方法
129-WX101 金属有物化学气相沉积氮化镓基薄膜外yan生长设备
130-WX101 利用等离子体化学气相沉积法沉积薄膜的方法
131-WX101 化学气相沉积金刚石厚膜的焊接方法
132-WX101 用化学气相沉积法由烷氧化铋制备铁薄膜
133-WX101 硼化镁超导薄膜的双加热器原化学气相沉积一步法艺
134-WX101 透明导膜的等离子体增强化学气相沉积设备
135-WX101 集硅片加热沉积于一体的化学气相沉积方法
136-WX101 采用大气开放式金属有物化学气相沉积制备一维氧化物阵列材料的方法及其装置
137-WX101 采用大气开放式金属有物化学气相沉积制备ZnO晶须的方法及其装置
138-WX101 热丝fu助微波子回旋共振化学气相沉积方法及装置
139-WX101 一种碳化硅纳米管的化学气相沉积制备方法
140-WX101 化学气相沉积过程的介观尺度温区温度稳定方法
141-WX101 在复杂形状刀具上制备金刚石薄膜的化学气相沉积方法
142-WX101 化学气相沉积法制备硅化钛纳米线的方法
143-WX101 保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积艺
144-WX101 保形性、应力和化学气相沉积层成分独立可变的甚低温化学气相沉积艺
145-WX101 用改良的化学气相沉积法制备光纤预型体的方法
146-WX101 化学气相沉积设备
147-WX101 一种化学气相沉积装置及其沉积方法
148-WX101 2S&C23C1618a01金属有化学气相沉积形成Cu2S
149-WX101 具有化学气相沉积的喷嘴板的热喷墨
150-WX101 用于大区域等离子体加强化学气相沉积的气体扩散喷头
151-WX101 一种化学气相沉积固态先驱体供给设备
152-WX101 具有较佳沉积再现性的等离子体增强化学气相沉积膜层
153-WX101 一种p型ZnO薄膜的金属有物化学气相沉积制备方法
154-WX101 用于制备光纤预型体的改进的化学气相沉积设备
155-WX101 用于沉积钽基材料的化学气相沉积母体
156-WX101 以NiAl催化剂化学气相沉积制备碳纳米管和碳洋葱的方法
157-WX101 直流辉光等离子体化学气相沉积氧化锌薄膜的系统及制备艺
158-WX101 高密度浆化学气相沉积制程及gai善膜厚均匀性的方法
159-WX101 等离子体化学气相沉积设备及用它制造半导体器件的方法
160-WX101 大气压平面放化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
161-WX101 具有检测反应室状态功能的化学气相沉积装置及检测方法
162-WX101 金属有物化学气相沉积设备反应室的反烘烤沉积结构
163-WX101 紫外UV和等离子体fu助金属有化学气相沉积MOCVD系统
164-WX101 用于制造多层高温超导HTS涂布带的金属有化学气相沉积MOCVD法以及设备
165-WX101 一种防止高密度等离子体化学气相沉积对金属损伤的方法
166-WX101 生长氧化物薄膜的金属有物化学气相沉积反应室结构
167-WX101 形成高密度浆化学气相沉积的前金属介层的方法
168-WX101 一种低温化学气相沉积制备氮化硅薄膜的方法
334-WX101 有金属化学气相沉积装置
335-WX101 磁场fu助的金属有物化学气相沉积设备
336-WX101 一种多晶硅化学气相沉积装置
337-WX101 一种等离子体化学气相沉积法PECVD小车
338-WX101 等离子体fu助化学气相沉积装置
339-WX101 用于化学气相沉积的等离子炬
