1 I线光刻机用双次光刻法实现0.18μm线宽图形的方法2 半导体工艺中光刻机台的控制方法及装置3 包括三维物体的支承表面间歇靠近容器底部所根据的运动的生产三维物体的立体光刻方法，和使用该方法的立体光刻机4 保持光刻机高速同步控制时序信号完整性的方法5 不同倍率光刻机之间的套刻精度的测量方法6 不同光刻机之间的套刻匹配方法7 步进扫描光刻机的自消除振动力的扫描狭缝装置8 步进扫描光刻机晶片台掩模台同步控制系统9 步进扫描光刻机控制方法与系统10 步进扫描光刻机连续扫描同步控制方法和系统11 步进扫描光刻机双台交换定位系统12 步进扫描光刻机双台交换系统13 步进扫描投影光刻机的高速同步广播总线及总线平台14 步进扫描投影光刻机的照明系统15 步进扫描投影光刻机同步控制器16 步进扫描投影光刻机同步控制系统17 步进扫描投影光刻机同步总线控制器及同步控制系统18 步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法19 步进式光刻机的光罩遮掩单元20 步进式重复曝光光刻机的掩模板工件台及曝光工艺21 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统22 采用传送带结构的光刻机硅片台双台交换装置23 采用过渡承接装置的光刻机硅片台双台交换系统24 采用十字导轨的光刻机硅片台双台交换装置25 测试标记及利用该标记检测光刻机成像质量的方法26 呈阵列布置的多掩模光刻机硅片台系统27 垂向微调及重力补偿装置与光刻机28 多平台光刻机硅片水平控制和自动对焦系统及其实现方法29 多掩模的光刻机硅片台系统30 非对称型移相光栅标记及在光刻机物镜像差检测中的应用31 改进的立体光刻机32 gai善吹风洁净度的光刻机系统33 gai善光照均匀性的光刻机34 高速激光点阵光刻机及其光刻方法35 铬版曝光治具及使用该治具的光刻机36 工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机37 光点格栅阵列光刻机38 光刻版设计方法及光刻工艺中不同光刻机的匹配方法39 光刻对准装置、其使用方法及光刻机40 光刻机41 光刻机产能监测系统42 光刻机成像光学系统像差现场测量方法43 光刻机成像质量的检测方法44 光刻机成像质量及工件台定位精度的测量系统与测量方法45 光刻机的操作台46 光刻机的垂向控制装置及方法47 光刻机的对准信号的周期测校方法48 光刻机的光路系统49 光刻机的硅片传输机械手控制器50 光刻机的激光器控制系统51 光刻机的晶片传送机构52 光刻机的快门叶片53 光刻机的柔性支撑装置及柔性支撑件54 光刻机的双工件台系统55 光刻机的双工件台系统56 光刻机的温度变频调节系统及调节方法57 光刻机的预对准机构58 光刻机的支撑结构及其制造方法59 光刻机的自动调焦装置60 光刻机电气伺服对位控制系统61 光刻机电子系统的整体布局的结构62 光刻机对焦方法63 光刻机对接接口模块的可抽拉式水平调节装置64 光刻机对准参数的检测装置及其检测方法65 光刻机对准方法66 光刻机对准性能的检测方法67 光刻机对准装置及其对准方法68 光刻机工件台磁预紧平衡定位系统69 光刻机工件台的清洁装置及方法70 光刻机工件台的一体式平衡质量装置71 光刻机工件台平衡定位系统72 光刻机工件台平衡定位系统73 光刻机工件台平衡定位系统74 光刻机工件台同步运动误差校正控制系统75 光刻机工件台陀螺定轴式稳定装置76 光刻机工件台陀螺进动式主动稳定装置77 光刻机工件台移动调整装置及方法78 光刻机工作台及其工作方法79 光刻机光束监测系统的标定装置及标定方法80 光刻机光瞳整形单元结构及其衍射光学元件设计方法81 光刻机光瞳整形光学系统及产生离轴照明模式的方法82 光刻机光源与掩模的联合优化方法83 光刻机光罩锯齿型拼接结构84 光刻机硅片承载台及其使用方法85 光刻机硅片对准信号的处理方法86 光刻机硅片台驱动装置87 光刻机硅片台双台交换系统88 光刻机硅片台双台交换系统及其交换方法89 光刻机硅片台移动装置及采用该移动装置的光刻机90 光刻机环形光栅离轴照明光学系统91 光刻机换台过程中公转电机残留震荡-yi-制的控制方法92 光刻机及光刻机用上版夹具93 光刻机及其扫描曝光方法94 光刻机及应用于光刻机中的工件台系统95 光刻机检测用掩膜版96 光刻机进行工程光刻露光时的对准方法97 光刻机k抗k蚀剂成像仿真三维交互显示方法98 光刻机可变狭缝*佳位置的测量方法99 光刻机空间像噪声评估及滤波方法100 光刻机控制系统330 一种光刻机硅片台双台交换系统331 一种光刻机硅片台双台交换系统332 一种光刻机硅片台双台交换装置333 一种光刻机硅片台双台交换装置334 一种光刻机硅片台微动工作台335 一种光刻机硅片台微动工作台336 一种光刻机硅片台线缆台
