1、一种环保型物理气相沉积间色镀膜的方法2、用于物理气相沉积处理的窄源3、用于物理气相沉积(PVD)处理系统的靶材冷却4、一种半导体薄膜真空气相沉积的连续自动进料装置5、由物理气相沉积形成的氮化铝缓冲层和活性层6、一种伺服阀芯气相沉积加工旋转机构7、一种采用物理气相沉积工艺在氮化硅切削刀具表面制备Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>涂层及其复合涂层的方法8、处理配件屏蔽和具有处理配件屏蔽的物理气相沉积腔室9、用于制备化合物的气相沉积方法10、电热管气相沉积装置11、低压电弧等离子体浸没涂层气相沉积和离子处理12、气相沉积材料源及其制造方法13、用于气相沉积的方法和装置14、医疗器械物理气相沉积(PVD)表面涂层技术15、用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法16、物理气相沉积装置17、物理气相沉积设备18、物理气相沉积装置19、用于物理气相沉积腔室靶材的冷却环20、气相沉积系统和供给头21、用于制备磷酸盐化合物的气相沉积方法22、去气腔室及物理气相沉积设备23、用于气相沉积应用的测量设备和方法24、物理气相沉积在旋转机械叶片表面制备硬阻尼涂层的方法25、物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺26、一种实现等离子体激活电子束物理气相沉积的装置和方法27、射频调谐基板偏压物理气相沉积装置和操作方法28、物理气相沉积的反应室腔体零件的清洁方法29、一种电子束物理气相沉积法制备ZrO<sub>2</sub>热障涂层的方法30、一种电子束物理气相沉积法制备的ZrO<sub>2</sub>热障涂层31、采用连续多弧离子镀物理气相沉积法制备铍铜合金薄板的方法32、无污电弧定向气相沉积（SA-DVD）及其相关方法33、采用连续多弧离子镀物理气相沉积制备Fe - 5.5～6.5 wt.% Si - 0.3～1.0wt.% Al 合金薄板的方法34、一种制备真空物理气相沉积镀层图案的方法35、使物理气相沉积薄膜的厚度稳定的装置及其方法36、采用连续磁控溅射物理气相沉积法制备铍铜合金薄板的方法37、用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置及其方法38、超声波辅助下油浴真空物理气相沉积多晶厚膜的装置和方法39、利用碳化物丝线的热丝化学气相沉积（HWCVD）40、具有旋转磁铁组件和中央馈送射频功率的物理气相沉积腔室41、用于在薄膜气相沉积装置中计量粒状源材料的装置42、具可变电容调谐器与反馈电路的物理气相沉积43、具有中心馈送射频能量的用于物理气相沉积的装置44、用于借助陶瓷靶进行电弧气相沉积的方法45、在物理气相沉积期间支撑工件的方法46、具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器47、一种物理气相沉积设备48、铝铜膜的物理气相沉积方法49、真空气相沉积系统以及制造有机电致发光元件的方法50、一种气相沉积薄膜的装置及其使用方法51、掺杂薄膜层在衬底上的连续沉积的气相沉积装置和方法52、电子束物理气相沉积与熨压组合改善镍基高温合金涂层表面完整性的方法53、连续铝卷板表面真空气相沉积法镀覆铝膜或铝锡合金膜的方法54、超声波作用下真空蒸发气相沉积生长多晶厚膜的方法55、摩擦学结合耐腐蚀性：物理气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积涂层新家族56、光学镜片用气相沉积装置57、真空气相沉积系统以及制造有机发光装置的方法58、物理气相沉积设备及磁控溅射方法59、预防物理气相沉积溅射工艺过程中金属靶材被击穿的方法60、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材61、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材62、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材63、电磁加速联合等离子体辅助增强电子束物理气相沉积系统64、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材65、采用物理气相沉积制备多级次碲化锑纳米线束阵列的方法66、兼具耐蚀性和耐磨性的镁合金表面气相沉积防护涂层及其制备方法67、制造用于物理气相沉积P-型透明导电膜的靶的材料68、一种物理气相沉积设备的电接入装置的防护结构69、一种物理气相沉积涂层的工艺方法70、一种用于气相沉积设备的样品旋转支撑装置71、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材72、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材73、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材74、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材75、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材76、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材77、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材78、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材79、薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材80、用于气相沉积系统中基板检测的主动观察端口检测组件81、微波辅助旋转物理气相沉积82、物理气相沉积装置及物理气相沉积方法83、用于物理气相沉积的设备和方法84、用于将源材料引入薄膜气相沉积设备的供给系统及工艺85、一种物理气相沉积设备备件清洗方法86、用于在基板上持续沉积薄膜层的气相沉积设备和过程87、用于气相沉积设备的输送器组件88、多晶硅薄膜低温物理气相沉积装置及其方法89、一种多步物理气相沉积设备90、真空气相沉积装置91、物理气相沉积线圈的处理方法及物理气相沉积线圈结构92、真空气相沉积设备93、物理气相沉积涂层前的焊接刀具的处理工艺94、真空气相沉积设备95、气相沉积设备和气相沉积方法96、一种等离子气相沉积方法97、减小由物理气相沉积生成的镀膜中的压力98、通过干法真空气相沉积制造多层薄膜的方法99、真空气相沉积材料的多用途载体及其方法100、一种阻止小磁体在气相沉积薄膜过程中产生凸起的方法101、等离子体气相沉积方法102、一种物理气相沉积加热系统过流保护装置103、一种用于硅薄膜电池陷光结构研究的物理气相沉积设备104、物理气相沉积镀膜的装置及其方法105、由气相沉积进行有机分子选区生长的普适方法106、制作渐变色薄膜的物理气相沉积工艺及镀膜设备107、调整气相沉积靶的方法和系统108、真空气相沉积装置、真空气相沉积方法和气相沉积物109、基于物理气相沉积的碲纳米线阵列的制备方法110、一种金银币模具表面的耐磨物理气相沉积涂层及制备方法111、气相沉积系统和气相沉积方法112、用于物理气相沉积装置的辅助治具及其维护方法113、物理气相沉积系统114、一种用于物理气相沉积设备的红外传感结构115、含有金属材料的构件，物理气相沉积靶，薄膜，和形成金属构件的方法116、具有可施加至靶材的射频电源的物理气相沉积等离子体反应器117、制备网状纳米阵列铁磁性薄膜的物理气相沉积方法118、具有可旋转衬底基座的物理气相沉积室119、具有可调节靶的物理气相沉积腔室120、一种物理气相沉积设备与工艺121、利用物理气相沉积技术制造表面抗菌制品的方法122、一种气相沉积材料生长和成型的方法及装置123、可消耗材料的厚板及物理气相沉积靶材料124、物理气相沉积金属层的预处理与硅化金属层的制作方法125、用于在基底上气相沉积的设备126、用强流脉冲离子束对电子束物理气相沉积涂层的封顶技术127、采用连续磁控溅射物理气相沉积制备Fe－6.5wt%Si薄板的方法128、物理气相沉积的升降机构129、操作物理气相沉积工艺的方法与系统130、离子化物理气相沉积(IPVD)工艺131、物理气相沉积靶构造132、物理气相沉积蒸镀机的磁性过滤装置133、气相沉积装置134、物理气相沉积蒸镀机的被镀物固持装置135、采用物理气相沉积法制备二硫化钨固体润滑膜的方法136、物理气相沉积设备及其电极及其沉积环137、用电子束物理气相沉积多孔树枝晶陶瓷层的热障涂层方法138、由钛和钛氧化物和低氧化物物理气相沉积的能量转换和储存膜和器件139、物理气相沉积部件和线圈的重新磨光方法140、利用物理气相沉积技术制造表面抗菌制品的方法141、超薄、大尺寸、高硅硅钢片电子束物理气相沉积制备方法142、多源蒸发物理气相沉积系统143、相异材料的气相沉积144、太阳能电池纳米晶硅薄膜的物理气相沉积装置及其方法145、物理气相沉积工艺及其设备146、物理气相沉积法直接生长成分单一的金属纳米线147、物理气相沉积方法及其设备148、物理气相沉积工艺及其设备149、物理气相沉积系统中的准直管的温度控制装置150、超薄自支撑聚酰亚胺滤光薄膜的物理气相沉积制备方法151、物理气相沉积室的遮蔽盘和托板152、气相沉积153、形成含铝物理气相沉积靶的方法;溅射薄膜;和靶的构成154、气相沉积镀膜与真空热处理在线结合的复合镀膜设备155、电子束物理气相沉积制备软磁与陶瓷纳米复合薄膜156、物理气相沉积制备大面积氧化锌纳米线膜层的方法157、真空等离子气相沉积多元多层离散结构涂层方法158、纯化物理气相沉积过程中工作气氛的吸气系统159、稳定的氧化钛基气相沉积材料160、一种用于电子束物理气相沉积制备涂层的夹具161、一种硫化锌真空气相沉积炉162、一种半导体薄膜真空气相沉积的连续自动进料装置163、整合物理气相沉积与化学气相沉积的连续式沉积设备164、物理气相沉积基片的控温装置165、电热管气相沉积装置166、一种物理气相沉积室的屏蔽罩结构167、一种物理气相沉积PVD溅射镀膜装置168、一种用于异质结物理气相沉积设备冷却模组169、物理气相沉积成膜设备工艺腔套件170、真空镀膜弧光辉光协同放电物理气相沉积装置171、物理气相沉积设备172、超声波辅助下水浴真空物理气相沉积厚膜的系统装置173、直流磁控装置转速探测装置及物理气相沉积系统174、一种物理气相沉积设备的压环装置175、电磁加速联合等离子体辅助增强电子束物理气相沉积系统176、真空式物理、化学混合气相沉积设备177、一种横卧往复式物理气相沉积法镀陶瓷离子镀膜机178、一种金属有机物化学气相沉积设备的中央支柱179、物理气相沉积主机台的传送腔180、真空气相沉积涂敷系统设备181、用于物理气相沉积设备的报警装置182、物理气相沉积加热系统过流保护装置183、一种物理气相沉积装置以及与其相关的防护套件184、用于真空镀膜气相沉积过程基片装夹的基片架185、真空蒸发物理气相沉积薄膜生长装置186、物理气相沉积蒸镀机的被镀物固持装置187、物理气相沉积蒸镀机的磁性过滤装置188、电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统189、物理气相沉积用杆状基体夹持装置190、物理气相沉积用的涂层装置
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