01、柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机

　　002、磁控溅射三元催化器陶瓷真空镀贵重金属膜装置

　　003、射频磁控溅射仪

　　004、一种磁控溅射真空电子束蒸镀系统

　　005、一种三级磁控溅射镀膜装置

　　006、一种可磁控溅射真空蒸镀系统

　　007、一种单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　008、一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　009、一种快速换靶双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　010、一种实现多模式输出磁控溅射镀膜电源电路及控制方法

　　011、一种高效率双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　012、一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　013、一种柔性基材双面连续卷绕磁控溅射镀膜自动生产线

　　014、一种柔性基材单面连续卷绕磁控溅射镀膜自动生产线

　　015、一种柱状旋转磁控溅射靶

　　016、一种利用磁控共溅射法制备铌硅薄膜的方法

　　017、一种真空磁控溅射镀膜磁悬浮传动装置

　　018、一种用于氮化硅沉积的磁控溅射镀膜设备

　　019、一种磁控溅射镀膜缓冲装置

　　020、一种J型阴极磁控溅射靶

　　021、一种双面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　022、一种快速换靶单面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　023、一种快速换靶双面往复连续高效镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

　　024、磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的制备方法

　　025、磁控溅射镀膜设备及ITO玻璃的制备方法

　　026、柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机

　　027、一种提高ITO薄膜性能的射频磁控溅射工艺及ITO薄膜

　　028、一种采用磁控溅射法制备PBZ薄膜用的PBZ靶材的制备方法

　　029、一种激光刻蚀与磁控溅射复合装置

　　030、一种磁控溅射镀膜衬底固定夹具

　　031、一种磁控溅射镀膜用阴极

　　032、一种中频磁控溅射镀膜用阴极

　　033、一种新型圆柱直流磁控溅射靶

　　034、一种用于中低真空的磁控溅射靶阴极

　　035、一种柱状旋转磁控溅射靶

　　036、一种中频磁控溅射镀膜用阴极

　　037、一种磁控溅射镀膜用阴极

　　038、一种射频磁控溅射制备BTS薄膜的方法

　　039、一种真空磁控溅射镀膜磁悬浮ITO薄膜装载运行装置

　　040、一种磁控溅射镀膜真空室温控门

　　041、一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置

　　042、一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置

　　043、柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机

　　044、一种射频磁控溅射制备ITO薄膜的方法及ITO薄膜

　　045、一种用于氮化硅沉积的磁控溅射镀膜设备及镀膜方法

　　046、一种磁控溅射改性处理人工关节的方法

　　047、一种磁控溅射在硅上制锰铁薄膜的方法

　　048、一种磁控溅射在镁合金上制氮化钛膜的方法

　　049、一种磁控溅射在塑料上制铝氧化锌膜的方法

　　050、一种磁控溅射制备彩色氮化钛膜的方法

　　051、一种磁控溅射制备超硬薄膜的方法

　　052、一种磁控溅射制备氮化硅膜的方法

　　053、一种磁控溅射制备发热纤维的方法

　　054、一种磁控溅射制备耐磨硬膜的方法

　　055、一种磁控溅射制备时尚装饰材料的方法

　　056、一种提高磁控溅射平面靶材利用率的方法及装置

　　057、一种可调阴极的对靶磁控溅射系统

　　058、磁控溅射旋转靶材

　　059、一种激光刻蚀用于磁控溅射薄膜图案化的制作方法

　　060、磁控溅射真空室进气装置及磁控溅射设备

　　061、磁控溅射镀膜真空箱体

　　062、一种用于磁控溅射的高低压转换装置

　　063、一种直流耦合型高能m脉m冲磁控溅射方法

　　064、一种在钠钙基基片使用磁控溅射制备透明导电膜的方法

　　065、一种永磁材料表面磁控溅射镀覆不锈钢防护层的方法

　　066、一种混合靶磁控溅射法制备高介电薄膜的方法

　　067、一种采用磁控溅射镀彩色膜的方法

　　068、一种离子注入提高大尺寸磁控溅射膜质量的方法

　　069、一种磁控溅射制备纳米多孔金属薄膜的方法

　　070、一种真空磁控溅射镀膜磁悬浮ITO薄膜装载运行装置及应用方法

　　071、一种磁控溅射镀膜真空室温控门及应用方法

　　072、磁控溅射镀膜方法及系统

　　073、一种真空磁控溅射镀膜磁悬浮传动装置及应用方法

　　074、一种平面磁控溅射靶

　　075、基于磁控溅射共沉积技术的电触头Ag-TiC纳米复合涂层

　　076、一种磁控溅射镀膜生产线的扩散泵水冷油镜装置

　　077、应用于纺织品彩色渐变磁控溅射卷绕镀覆的方法

　　078、一种磁控溅射镀膜真空室墙体温控加热装置及应用方法

　　079、一种监控装置以及磁控溅射设备

　　080、一种扫描磁场磁控溅射阴极

　　081、一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置及其方法

　　082、一种利用射频磁控溅射法制备单分散、尺寸可控纳米银颗粒的方法

　　083、一种可生成图案的磁控溅射卷绕镀膜机

　　084、磁控溅射装置

　　085、磁控溅射磁铁系统及其控制方法和磁控溅射装置

　　086、一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备

　　087、一种新型磁控溅射靶材

　　088、用于磁控溅射设备的新型导轮

　　089、轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置及方法

　　090、磁控溅射金属氧化物的设备

　　091、一种用于磁控溅射工艺的掩膜夹具

　　092、一种用于磁控溅射工艺的立式掩膜夹具

　　093、基于磁控溅射共沉积技术的Cu-TiN纳米复合薄膜

　　094、磁控溅射环装置及磁控溅射反应器

　　095、一种磁控溅射设备传送系统

　　096、一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备

　　097、一种长寿命磁控溅射靶材

　　098、能改变靶表面磁通量的磁控溅射靶

　　099、一种提高磁控溅射矩形靶膜厚均匀性的基板偏x心x自转方法

　　100、一种人工关节臼杯、磁控溅射镀膜装置及其制备方法

　　101、磁控溅射靶材及磁控溅射装置

　　102、一种提高磁控溅射矩形靶膜厚均匀性的基板运动方法

　　103、gai善生物医用镁合金表面磁控溅射TiN涂层结合性能的方法

　　104、一种磁控溅射法制备钼掺杂氧化锌薄膜的方法

　　105、磁控溅射设备及磁控溅射方法

　　106、一种磁控溅射制备氧化钒膜的方法

　　107、一种用于磁控溅射机台的新型RF屏蔽罩

　　108、一种可变磁通量分布的直流磁控溅射机磁通管

　　109、用于MB2-830型磁控溅射机台的靶材的磁通管装置

　　110、轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置

　　111、一种提高ITO薄膜性能的磁控溅射工艺

　　112、一种高功率双极m脉m冲磁控溅射方法

　　113、一种基于磁控溅射法制备耐微晶涂层的方法

　　114、一种磁控溅射镀膜机的两面镀膜夹具

　　115、一体式触摸屏磁控溅射镀膜生产线的传送系统

　　116、线性磁控溅射阴极均匀供气系统管路

　　117、双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备

　　118、一种磁控溅射装置

　　119、一种磁控溅射设备及方法

　　120、一种用于提高磁控溅射镀膜靶材利用率的靶材

　　121、一种可兼容不同尺寸基片和不同薄膜的磁控溅射镀膜夹具

　　122、一种磁控溅射法制备Bi2Se3薄膜的方法

　　123、一种磁控溅射镀膜伞齿轮传动旋转端头

　　124、磁控溅射设备

　　125、磁控溅射fu助的MOCVD装置及方法

　　126、用于驱动磁控管的驱动机构及磁控溅射加工设备

　　127、磁控溅射装置以及磁控溅射方法

　　128、一种磁控溅射设备及磁控溅射方法

　　129、磁控溅射倾斜沉积镀膜装置

　　130、一种扫描磁场磁控溅射阴极

　　131、一种复合结构材料的电流磁控溅射装置

　　132、一种磁控溅射装置

　　133、一种三维移动阴极磁控溅射

　　645、一种可提高靶材利用率的平面磁控溅射阴极

　　646、一种高功率平面磁控溅射阴极

　　647、一种gai善磁场分布的平面磁控溅射靶

　　648、用于溅射磁性材料的磁控靶

　　649、一种磁控溅射方法

　　650、双室磁控与离子束复合溅射沉积系统

　　651、一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置

　　652、会切磁场约束ICP增强电离的非平衡磁控溅射薄膜沉积装置

　　653、控制反应性高功率m脉m冲磁控管溅射工艺的方法及其装置

　　654、大面积k抗k反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线