1、一种基于PCDL型聚氨酯酸酯制备的光刻胶组合物2、基于正性光刻胶的镍阳模具制作方法3、高分子快速圆网蓝光制版感光胶4、光刻胶组合物及其制备方法5、利用热显影增强电子束光刻胶对比度的制备高密度平整图形的方法6、含重氮基团的感光剂、光刻胶组合物与其制备方法7、光刻胶剥离液制备方法8、一种感光胶剥离剂9、一种相变光刻胶及其制备方法10、光致抗蚀剂剥离和清洁组合物、其制备方法及其用途11、一种光刻胶及其制作方法、使用方法12、采用光刻胶剥离制备斜坡状边缘金属膜的工艺方法13、利用光二聚化学作用的光致抗蚀剂和使用该光致抗蚀剂的有机发光二极管显示器的制造方法14、防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法15、一种负性光刻胶及其制备方法、使用方法16、光刻胶与显影液的恒温控制系统17、一种光固化丝网印刷感光胶的制备方法和使用方法18、光刻胶的制备装置及制备方法19、一种用于芯片的光刻胶剥离液、制备方法及去胶工艺20、一种无铬型圆网感光胶的制备方法21、一种光刻胶水基硅片清洗液及其制备方法22、用于半导体制造的新型光刻胶去除液23、负性含氟光刻胶组合物及用于制备聚合物光波导器件24、一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法25、光刻胶的去除方法、曝光装置以及显示基板的制造方法26、微电机系统制造工艺中聚酰亚胺刻蚀后去除光刻胶的方法27、光致抗蚀剂用树脂组合物、光致抗蚀剂以及液晶设备的制造方法28、一种多元醇聚合物感光胶及其制备方法29、一种多层负性光刻胶模具制作方法30、光刻胶的处理方法以及半导体器件的制备方法31、光刻胶薄膜的制作方法32、光刻胶的处理方法以及半导体器件的制备方法33、光刻胶的处理方法以及半导体器件的制备方法34、一种双固化单组份丝网印刷感光胶的制备方法35、掩膜板及其制作方法、光刻胶层的曝光方法36、一种新型有机光刻胶剥离液及其制备工艺37、一种喷墨打印丝网制版的方法及其感光胶墨水38、一种去除聚酰亚胺柔性电极制备过程中光刻胶的方法39、盐、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法40、一种导电光刻胶及使用该导电光刻胶的OLED电极及制造方法41、光刻胶成膜树脂及其制备方法42、光刻胶用剥离液组合物及其制备和应用43、激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法44、一种负性光刻胶树脂组合物及其制备方法45、一种光刻胶模板及图案化ZnO纳米棒阵列的制备方法46、可用于化学增幅型正性光刻胶的敏化剂及其在制备化学增幅型正性光刻胶中的应用47、化学增幅型正性光刻胶、制备方法及其在双光子精细加工中的应用48、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法49、光致抗蚀剂底层组合物和使用其制造半导体器件的方法50、光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法51、光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物52、一种酸正性光刻胶及其制备方法53、耐高温透明厚膜光刻胶及在制备LED荧光粉层中的应用54、一种光刻胶组合物和一种LED表面制备荧光层的方法55、用于液晶显示器制造工艺的包含伯烷烃醇胺的光刻胶剥离组合物56、免封孔CTcP阳图型感光胶及其制备方法和免封孔PS版57、免封孔CTcP感光胶及其制备方法和免封孔CTcP版58、一种感光胶及其制备方法59、CTcP感光胶及其制备方法和CTcP版60、光刻胶、离地剥离的方法和TFT阵列基板的制作方法61、光刻胶图案的形成方法和阵列基板的制造方法62、一种TFT液晶显示器返修制程中的光刻胶剥离方法63、印花网版感光胶剥离剂及剥离方法64、一种高精度印花圆网感光胶及其制备方法65、正性光刻胶组成物及其制备方法66、一种热敏阳图CTP感光胶液及其制备方法67、一种光刻胶组合物及其制备方法和应用68、高含氟芳香-脂肪负性光刻胶及用于制备聚合物波导器件69、一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法70、一种胶印水性UV感光胶喷射制版方法71、光致抗蚀剂剥离剂组合物、层积金属布线基板的光致抗蚀剂剥离方法和制造方法72、用于制造LCD的光致抗蚀剂剥离组合物73、一种电沉积型光致抗蚀剂及其制备方法和成膜方法74、自动控制光刻胶厚度的方法和系统75、用于制备光致抗蚀剂图案的方法76、光刻胶组合物和使用其制造显示基板的方法77、用于制备光致抗蚀剂图案的方法78、激光曝光方法、光致抗蚀剂层加工方法和用于制造图案成形品的方法79、基于SU-8光刻胶的纳米流体系统自支撑结构的制作方法80、光可逆的纳米压印光刻胶及其制备和应用方法81、丝网印刷感光胶及其生产方法82、基于SU-8厚光刻胶的三维圆滑曲面微结构的制作方法83、化学放大型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的制造方法84、一种制备倒梯形光刻胶截面的方法85、制作光刻胶厚度与关键尺寸关系曲线的方法86、一种重氮感光胶热稳定性和光化学活性的调控方法87、一种提高重氮感光胶热稳定性的方法88、用于电子束光刻胶PMMA的显影液及其配制方法89、光刻胶的去除方法及连接孔的制造方法90、光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法91、一种高精度光刻胶分配泵控制装置及其控制方法92、光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置93、光致抗蚀剂去除用组合物和用其制造阵列基板的方法94、光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置95、液晶显示器的滤色器阵列制造中的光刻胶剥离剂组合物96、配置成从顶部和底部接收流体的光刻胶工具的清洗制具97、黑色感光胶和形成等离子显示屏障壁的方法以及由其获得的等离子显示屏98、用于液晶显示器的黑色矩阵高敏感度光刻胶组合物以及使用该组合物制备的黑色矩阵99、光刻胶树脂、及利用其形成图案的方法和制造显示面板的方法100、一种用倒梯形剖面的光刻胶制作介质边缘缓坡的方法101、光致抗蚀剂组合物和使用该组合物制造阵列基板的方法102、负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法103、降低半导体制造中光刻胶显影缺陷的光刻显影方法104、干膜光致抗蚀剂及其制备方法105、用于去除彩色滤光片制程中不良基板上彩色光刻胶及保护层的剥离液106、光致抗蚀剂剥离用组合物和剥离方法以及显示装置的制法107、用于半导体制造的光刻胶剥离剂组合物108、控制光刻胶分配的装置和方法109、光刻胶的去除方法和制造镶嵌结构的方法110、光刻胶组合物和使用其制造薄膜晶体管基底的方法111、感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法112、感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和器件制造方法113、一种负性彩色光刻胶脱胶剂及其制备方法114、一种正性光刻胶剥离液及其制备方法115、正性光致抗蚀剂组合物、厚膜光致抗蚀剂层压材料、用于制备厚膜抗蚀剂图案的方法以及用于制备接线端子的方法116、一种耐水环保型圆网制版感光胶117、光致抗蚀剂组合物、图案化薄膜的方法和制备液晶显示器面板的方法118、光致抗蚀剂显影液及使用该显影液的基板的制造方法119、光刻胶膜卷材及其制造方法120、一种耐热负性光刻胶的制备方法121、去除光致抗蚀剂、蚀刻残余物和BARC的配制料122、一种用于光刻胶成膜的光刻胶加热控制系统123、制作光刻胶图案的工艺124、半导体制造中去除钛或氮化钛层上的光刻胶的方法125、抑制电化腐蚀的非水光致抗蚀剂剥离剂126、一种制备光刻胶图形的方法127、用于光刻胶的主体成膜树脂及其制备方法和应用128、用光刻胶热熔法制备球形凸起生物微电极阵列的方法129、感光胶液体的供给装置130、正性干膜光致抗蚀剂以及用于制备该光致抗蚀剂的组合物131、光刻胶组合物和使用其制备滤色片基片的方法132、感光化合物、感光组合物、光刻胶图案形成方法和元件制造方法133、消除光刻胶中气泡的方法及凸点制作方法134、正型干膜光致抗蚀剂和用于制备该光致抗蚀剂的组合物135、用叠层光刻胶牺牲层制备MEMS悬空结构的方法136、制备化学放大正性光刻胶用树脂的方法137、光致抗蚀剂组合物及利用它制备薄膜晶体管基底的方法138、光刻胶液制备方法及使用该光刻胶液的光刻胶膜139、光刻胶去除剂组合物以及用该组合物形成布线结构和制造薄膜晶体管基片的方法140、"光刻胶组合物,薄膜图案形成方法、TFT阵列面板制造方法"141、正性光致抗蚀剂以及结构体的制造方法142、含有金属卤化物腐蚀抑制剂的碱性后等离子体蚀刻/灰化残余物去除剂和光致抗蚀剂剥离组合物143、光刻胶聚合物、光刻胶组合物及制造半导体装置的方法144、用于浸渍光刻的聚合物、含有它的光致抗蚀剂组合物、制备半导体器件的方法及半导体器件145、193nm远紫外光刻胶及其制备方法146、193nm远紫外光刻胶及其制备方法147、微光刻技术用光刻胶组合物中的溶解抑制剂148、光致抗蚀剂剥离液组合物、图案的制造方法和显示装置149、化学放大型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂层层叠体、光致抗蚀剂组合物的制造方法、光致抗蚀图案的制造方法以及连接端子的制造方法150、利用具有热流动特性的负光刻胶层制造半导体的方法151、光刻胶稀释剂的制造方法152、光刻胶组合物及用它形成薄膜图案的方法以及用它制备薄膜晶体管阵列板的方法153、感光树脂组合物及其制备方法、以及包含该组合物的感光胶膜154、用于在制造半导体器件等中分配光刻胶的方法和设备155、控制光刻胶组合物溶解速率差的方法156、用于剥离光刻胶的组合物及薄膜晶体管阵列面板制造方法157、环保型再生PS版油墨及感光胶剥离剂及其配制方法158、光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法159、光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置、涂布装置和光致抗蚀剂组合物160、LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法161、光致抗蚀剂组合物及其无旋转涂布法、有机层图案制造方法、液晶显示器162、化学放大型正光刻胶组合物，(甲基)酸酯衍生物及其制备方法163、光致抗蚀剂基材及其精制方法、和光致抗蚀剂组合物164、旋涂材料层的平坦化方法及光致抗蚀剂层的制造方法165、正性光刻胶的制作方法166、水乳型圆网感光胶167、一种环保水乳型圆网感光胶168、一种耐酸耐碱的圆网制版感光胶169、高分辨率的圆网制版用感光胶170、高效水乳型圆网感光胶171、系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法172、光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法173、系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法174、光致抗蚀剂组合物及其制备方法175、光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法176、LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法177、负性光刻胶树脂涂布液及其制备方法178、光刻胶掩模及其制作方法179、LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法180、光刻胶图案增厚材料、光刻胶图案及其形成工艺，半导体器件及其制造工艺

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